미세 공정화 되는 과정에서 반도체에 전력 효율이 높아져,전성비가 상승하게 되는데, 이것은 소자 한개당 사용되는 전류의 양이 감소하면서 생긴일이지.그런데 채널에 과도한 전압을 주게 되면 소자가 타버리는경우가 존재하겠지.클럭을 높이고, 핀을 늘려서, 바로 바로 배출할수있도록 설계를 해두면 잔여 전류가 감소해서, 소자가 타지 않을꺼야.미세공정화 될수록 전성비가 상승하는 이유가 바로 그건데, 바이퍼 크기와 채널 총 크기를 유지하게 되면 반도체가 손상 되지 않는다는거지.전압에 대한 소자의 안정성을 제고하기 위해서, 고전압이 내부에서 안정되도록 하는 CPU 설계가 필요하겠지.단순하게 소재만 바꾸는게 아니라, 전류를 제어하도록 하는 CPU 설계가 필요하다는거야.4나노 이하의 CPU,반도체에서 이 핵심 기술이 전자 제품의 가치를 높이고,미세공정화를 성공적으로 이끌겠지.1.5V를 넣어도. 1.75V로 전압을 넣어도 소자가 타지 않도록 해야 돼,고 전압을 설정하더래도 CPU의 적정 전압에 맞게 변환 하는 거지.이것이 바로 기술력이 중요한 이유겠지.
반도체 누설 전류의 원인.jpg
미세 공정화 되는 과정에서 반도체에 전력 효율이 높아져,
전성비가 상승하게 되는데,
이것은 소자 한개당 사용되는 전류의 양이 감소하면서 생긴일이지.
그런데 채널에 과도한 전압을 주게 되면 소자가 타버리는경우가 존재하겠지.
클럭을 높이고, 핀을 늘려서, 바로 바로 배출할수있도록
설계를 해두면 잔여 전류가 감소해서, 소자가 타지 않을꺼야.
미세공정화 될수록 전성비가 상승하는 이유가 바로 그건데,
바이퍼 크기와 채널 총 크기를 유지하게 되면 반도체가 손상 되지 않는다는거지.
전압에 대한 소자의 안정성을 제고하기 위해서,
고전압이 내부에서 안정되도록 하는 CPU 설계가 필요하겠지.
단순하게 소재만 바꾸는게 아니라,
전류를 제어하도록 하는 CPU 설계가 필요하다는거야.
4나노 이하의 CPU,반도체에서 이 핵심 기술이 전자 제품의 가치를 높이고,
미세공정화를 성공적으로 이끌겠지.
1.5V를 넣어도. 1.75V로 전압을 넣어도 소자가 타지 않도록 해야 돼,
고 전압을 설정하더래도 CPU의 적정 전압에 맞게 변환 하는 거지.
이것이 바로 기술력이 중요한 이유겠지.