0.01 나노 양산 5년내 가능함.jpg

핵심 공정이 만들어졌어.

위의 사진은 투과전자현미경의 원리를 설명하는 그림이야.

EUV레이저로 웨이퍼를 그리는데, 동일해,

여기서 시료가 마스크겠지.

그리고 그 상을 대물렌즈가 받고, 투사렌즈가 받아서

마지막에 형광 스크린에 1/10배 작게 1/100배 작게 하는거야.

그런데 이렇게 빛을 압축시키게 되면 빛의 에너지가 너무 커져서

원래 있던 마스크의 원형이 나오지 않고, 빛이 무수하게 겹쳐져보인다고.

그래서 대물렌즈와 투사렌즈 사이에 투과율을 감소시키는 감소재를 넣어주는거지.

렌즈를 통해서 10번,20번,30번 통과하도록 해서 빛의 밀도가 1%가 되면

100배가 가능하겠고, 10%면 10배가 가능하겠지.

렌즈를 미세하게 컨트롤 하면 아주 멋있게 성공 할 것 같아.

마지막에 상이 매치는 것을 확인하고 그대로 웨이퍼를 그려내는거지.

핵심 공정과 핵심 기술은 이미 공개되었어.

빛의 밀도와 에너지를 낮추는것, 빛을 압축시키는것,

0.01나노 불가능하지 않아.