EUV레이저로 0.0001나노 만들기.JPG

0.0001나노를 만들기 위해서 현대 반도체 업계에서 난제는 빛의 크기를 줄이는거야.

빛의 크기 줄이는것은 빛의 밀도를 낮추고 축소시키는거야.

 EUV 레이저의 공정을 보면 처음에 노광을 반사시켜 빛을 크게 만들어,

그리고 다시 축소시켜서 마스크에 충분하게 빛이 닿을수있게 만드는거지.

그런데 여기서 펠리클이라는 보호투과체가 없으면 마스크가 손상을 입어서,

보호대로 설치하는거야. 빛이 너무 과열되면서 마스크를 태우는거지.

이게 전압과 별개로 파장이 짧아질수록, 해상도가 높게 나오는 이유야.

그러면 빛의 밀도를 어디서 줄여야 할까?

마스크에 빛이 닿은 이후, 만들어진 그 빛의 밀도를 낮추고,

축소렌즈로 빛을 축소하는데 포커싱을 해야 돼.

그림에 보면 마지막 A1과 B1을 선을 그었는데, 

이 선이 바로 투과율 감소 렌즈를 넣는거지. 

선텐 필름처럼 빛이 10%만 투과하고, 

나머지는 흡수되는거지. 그리고 밑으로 내려가면서 빛이 다시 응축되겠지.

거기서 단위면적당 밀도가 상승하면 해상도가 떨어지기 때문에,

에너지 상승 부분 전 단계에서 투과율 감소재 렌즈를 넣어, 10%로 빛을 통과시키는거지.

이게 EUV 레이저 10000:1비율 축소 과정이야. 

이렇게 4번 공정을 거치면, 1만배가 작아져,

정리하자면, A1과 B1사이을 1만:1의 비율로 축소하도록 설계하고,

빛이 내려가면서, 빛의 일정 에너지가 상승하는 구간에 빛의 밀도를 낮춰주는 

투과율 감소재를 넣어서, 단위면적당 빛으로 해상도가 떨어지는것을 막자는거지.

A1과 B1 사이에 이 빛의 밀도를 낮춰주는 감소재가 10개가 들어갈수도있어.

그렇게 해서 빛의 밀도를 10배를 낮추고, 축소하는 과정에서 또 10배를 낮추고,

총 4번만 하면 1만배를 축소할수있지.

그리고 마지막에 웨이퍼에 그려내는거야.

이러면 한 개의 웨이퍼에 1만배를 더 그릴수있게 되는거야.

광학의 세계에서 약 1CM만 더 뒤로 밀리게 하는것 만으로도 

크기를 100배 이상 줄일수도있어.

빛의 크기를 줄이는 해법은 빛의 밀도를 낮추는거야.

그리고 그 빛의 밀도를 언제 어떻게 낮추냐가 핵심 기술이 되겠지.