0.01나노를 현실화 하려면 가장 중요한 기술이 빛의 크기를 줄이는거지.빛의 크기를 줄이면서, 해상도를 높이는 것,그리고 터널링 효과를 막는것,전부 실현 가능한일이야. EUV레이저의 공정을 보면 빛의 분사를 통해서, 빛을 큰 면적에 반사되도록 한뒤,그 빛을 축소해 마스크에 닿게해, 그 반사된 빛으로 웨이퍼를 그려내지.이 과정에서 열 에너지가 너무 과도해, 마스크가 타버리는데, 그래서 펠리클을 장착하는거야. 펠리클에 닿는 순간 열 에너지를 흡수해, 빛을 투과시키는거지.여기서 투과율이 90%라고 하더래도, 실제 감소된 빛의 양이 꾀 많아.그 이유는 열로 전환되어서 흡수되었기 때문이야.빛의 크기를 줄이는것은 빛의 밀도를 낮춰서, 축소 렌즈를 통해서 그 상의 크기를 줄이는거야.광학의 세계에서 확대하려면 빛을 모아야 하지만, 축소하려면 빛을 잃게 해야돼,그래서 바로 빛의 밀도를 낮추는 투과체를 만드는거지.확대하는데에는 한계가 있지만, 축소하는데에는 한계가 없어,1000만대 1의 비율로 축소하는것도 가능하다는거지.그러면 빛의 크기를 줄이는게 중요한데, 마스크에 닿아 반사된 빛의 밀도를 줄여주어야돼. 펠리클처럼 투과하면 빛의 밀도를 낮춰주는것을EUV 레이저 공정에서 A1과 같은 곳에 설치할때는 매우 얇게, B1에 설치할때는 좀 두껍게 해도 되겠지.그 이유는 빛의 밀도가 낮은곳에 두껍게 만들면 빛이 흡수되어서,해상도가 안 나오기 때문이야.그래서 펠리클의 설치도 잘 해야지.반사되는 반사경 바로 앞에 설치 하는 경우를 보면,마스크의 경우 빛이 모이고, 모인 빛을 방출해, 그래서 펠리클이 두꺼워도 가능했지만,다른 거울은 빛이 면적에 퍼져있어서, 펠리클이 매우 얇아져야 돼, 그래야 흡수되지 않는다는거야.물리적으로 펠리클의 두께를 더이상 얇게 만들수 없다면,A1이 아니라 B1처럼 빛이 모였을때의 빛의 궤도에 미세한 두께의 펠리클을 설치하면 해결되겠지.투과율 10%의 펠리클을 6번만 통과하게 되면, 1,000,000배 작게 만들수 있어.8번이면 1억배 작게 만들수 있지.0.01CM가 뒤로 밀리는것 만으로도 1000배,1만배,10만배,100만배가 작아질수있다는거야.그리고 마스크가 6인치라서, 현미경으로 100배,1000배,10000배 크기로 보게 되면,마스크의 형상의 디테일이 좀 문제가 있다는거야.그래서 이것을 12인치로 키우고, 특수 공정을 통해서, 미세한곳 또 체우는거지.이 과정을 통해서, 1억배 작게 만들어도 높은 해상도를 구현할수있게 되는거야.0.01나노의 세계의 미세한 곳 까지 체우고, EUV레이저로 충분하게 빛을 분사해,반사된 빛의 밀도를 낮추고 축소하기만 하면 되는 문제닌깐,0.01 나노에서도 해상도를 높이고, 빛의 크기를 줄이는 난제가 다 풀려버린거지.마스크 하나를 만드는데도 더 정교하게 만들어야 한다는거야.빛의 크기를 줄이려면 빛의 밀도를 낮춰서, 축소 렌즈 배율을 높이면 돼,0.01나노를 현실화할 핵심 기술은 빛의 밀도를 어디서 어떻게 낮추냐, 빛의 크기를 줄이는 과정에서, 어떻게 해상도를 높게 만들것이냐,이것이 중요하겠지.이론적으로 물리적으로 0.01나노 반도체는 가능해.이 기술은 1세대를 앞당기게 될꺼야.기술적 가치만 보더래도 1000조 그 이상이야.0.01나노 반도체가 만들어지면, 스마트폰이 현대 사용하는 PC보다 수백배 빨라질수도 있어.전력 소모도 획기적으로 줄이게 될꺼야.CPU가 0.01나노가 되면 매우 작아지는데, 시장성도 훼손되지 않지.CPU 1개가 아니라 10개, 100개를 끼워넣을수도 있게 만들수있어.메인 CPU 직렬 1개와 병렬 CPU 99개, GPU 100개,300개까지 끼워 넣을수있지.이런 것은 초 고가 하이엔드 모델에 한해서고,일반 하이엔드 모델은 메인 CPU 1개, 병렬 보조 CPU 2개,GPU는 최대 6개정도가 될꺼야.이 기술이 만들어지면 가장 먼저 PC가 사라지게 될꺼야. 스마트폰 시장이 PC를 집어삼키겠지.
EUV 레이저 0.01나노화 현실화 핵심 기술.jpg
0.01나노를 현실화 하려면 가장 중요한 기술이 빛의 크기를 줄이는거지.
빛의 크기를 줄이면서, 해상도를 높이는 것,
그리고 터널링 효과를 막는것,
전부 실현 가능한일이야.
EUV레이저의 공정을 보면 빛의 분사를 통해서, 빛을 큰 면적에 반사되도록 한뒤,
그 빛을 축소해 마스크에 닿게해, 그 반사된 빛으로 웨이퍼를 그려내지.
이 과정에서 열 에너지가 너무 과도해, 마스크가 타버리는데,
그래서 펠리클을 장착하는거야. 펠리클에 닿는 순간 열 에너지를 흡수해, 빛을 투과시키는거지.
여기서 투과율이 90%라고 하더래도, 실제 감소된 빛의 양이 꾀 많아.
그 이유는 열로 전환되어서 흡수되었기 때문이야.
빛의 크기를 줄이는것은 빛의 밀도를 낮춰서, 축소 렌즈를 통해서 그 상의 크기를 줄이는거야.
광학의 세계에서 확대하려면 빛을 모아야 하지만, 축소하려면 빛을 잃게 해야돼,
그래서 바로 빛의 밀도를 낮추는 투과체를 만드는거지.
확대하는데에는 한계가 있지만, 축소하는데에는 한계가 없어,
1000만대 1의 비율로 축소하는것도 가능하다는거지.
그러면 빛의 크기를 줄이는게 중요한데,
마스크에 닿아 반사된 빛의 밀도를 줄여주어야돼.
펠리클처럼 투과하면 빛의 밀도를 낮춰주는것을
EUV 레이저 공정에서 A1과 같은 곳에 설치할때는 매우 얇게,
B1에 설치할때는 좀 두껍게 해도 되겠지.
그 이유는 빛의 밀도가 낮은곳에 두껍게 만들면 빛이 흡수되어서,
해상도가 안 나오기 때문이야.
그래서 펠리클의 설치도 잘 해야지.
반사되는 반사경 바로 앞에 설치 하는 경우를 보면,
마스크의 경우 빛이 모이고, 모인 빛을 방출해,
그래서 펠리클이 두꺼워도 가능했지만,
다른 거울은 빛이 면적에 퍼져있어서, 펠리클이 매우 얇아져야 돼,
그래야 흡수되지 않는다는거야.
물리적으로 펠리클의 두께를 더이상 얇게 만들수 없다면,
A1이 아니라 B1처럼 빛이 모였을때의 빛의 궤도에
미세한 두께의 펠리클을 설치하면 해결되겠지.
투과율 10%의 펠리클을 6번만 통과하게 되면, 1,000,000배 작게 만들수 있어.
8번이면 1억배 작게 만들수 있지.
0.01CM가 뒤로 밀리는것 만으로도 1000배,1만배,10만배,100만배가 작아질수있다는거야.
그리고 마스크가 6인치라서, 현미경으로 100배,1000배,10000배 크기로 보게 되면,
마스크의 형상의 디테일이 좀 문제가 있다는거야.
그래서 이것을 12인치로 키우고, 특수 공정을 통해서, 미세한곳 또 체우는거지.
이 과정을 통해서, 1억배 작게 만들어도 높은 해상도를 구현할수있게 되는거야.
0.01나노의 세계의 미세한 곳 까지 체우고, EUV레이저로 충분하게 빛을 분사해,
반사된 빛의 밀도를 낮추고 축소하기만 하면 되는 문제닌깐,
0.01 나노에서도 해상도를 높이고, 빛의 크기를 줄이는 난제가 다 풀려버린거지.
마스크 하나를 만드는데도 더 정교하게 만들어야 한다는거야.
빛의 크기를 줄이려면 빛의 밀도를 낮춰서, 축소 렌즈 배율을 높이면 돼,
0.01나노를 현실화할 핵심 기술은 빛의 밀도를 어디서 어떻게 낮추냐,
빛의 크기를 줄이는 과정에서, 어떻게 해상도를 높게 만들것이냐,
이것이 중요하겠지.
이론적으로 물리적으로 0.01나노 반도체는 가능해.
이 기술은 1세대를 앞당기게 될꺼야.
기술적 가치만 보더래도 1000조 그 이상이야.
0.01나노 반도체가 만들어지면,
스마트폰이 현대 사용하는 PC보다 수백배 빨라질수도 있어.
전력 소모도 획기적으로 줄이게 될꺼야.
CPU가 0.01나노가 되면 매우 작아지는데, 시장성도 훼손되지 않지.
CPU 1개가 아니라 10개, 100개를 끼워넣을수도 있게 만들수있어.
메인 CPU 직렬 1개와 병렬 CPU 99개, GPU 100개,300개까지 끼워 넣을수있지.
이런 것은 초 고가 하이엔드 모델에 한해서고,
일반 하이엔드 모델은 메인 CPU 1개, 병렬 보조 CPU 2개,
GPU는 최대 6개정도가 될꺼야.
이 기술이 만들어지면 가장 먼저 PC가 사라지게 될꺼야. 스마트폰 시장이 PC를 집어삼키겠지.