반도체는 2나노 이하로는 불가능하다는게 반도체 업계의 정론이지.그래서 2나노 이하부터는 2나노 반도체를 3D형식으로 쌓거나 더 많이 넣어서, 그 면적이 1나노일때와 같은 용량을 가지도록 하는거야.이것은 CPU나 반도체의 크기가 커진다는것을 의미하는거야.저장장치 반도체에서는 5나노 이하로 낮추면 스케일링 현상이 심한데,누설전류가 발생해서 데이터의 오류가 발생하는거지.그래서 0.01나노를 현실화 하려면 빛의 크기를 줄이는것과 누설전류를 막아야돼,빛의 크기를 줄이려면 빛의 밀도를 낮추고 배율을 높이면 되겠지.렌즈 필터 ND1000000의 경우, 빛이 투과하면 빛의 밀도를 1/100만으로 낮춰주는데,이때 빛의 접점 부분을 뒤로 미루는거야. 코일 축소 배율 렌즈로 빛의 X축과 Y축을 미세 교정하는거지.그러면 2나노를 그리던 빛의 크기는 약 100만배가 낮아져서,0.0000002나노가 되는거야. 이때 정교한 축소 배율을 정하기 위해서,빛의 밀도를 ND1000000으로 100만배를 낮추고, 빛의 접점의 에너지를 측정하는거야.그 에너지가 높으면 낮춘 빛의 밀도보다 뒤로 물러난거고 작으면 너무 앞으로 온거지.정교하게 0.0000001J까지 맞춰서 0.000001나노를 만들수있다는거지.그리고 렌즈 필터를 거친 빛의 입자가 공기층에 닿으면 사라지는데, 진공 상태에서 해야겠지.렌즈 필터 ND 200을 사용해서 빛의 밀도를 1/200으로 낮춰주고, 2나노의 빛이 투과하고빛의 접점을 잘 맞추면 0.01나노가 되는건데, 이때 접점에서 측정되는 에너지 크기로 미세조율을 하는거야.광학의 세계에서 0.001CM 뒤로 밀렸는데 1억배가 작아질수도있지.빛의 크기를 줄이려면 밀도를 낮추고 배율을 높이는거야.접점만 뒤로 미루면 배율은 높아지는데, 정교한 작업이 중요하다는거지.그리고 빛의 해상도가 중요한데, 문자 A를 100배의 크기를 키우면 커지면서 A의 사이사이에 빈틈이 생기고해상도가 떨어져, 그런데 빛의 크기를 줄이면 해상도가 좋아지면서, 단위 면적에 겹치는 빛이 생기면서, 형태가 깨진다는거야.그래서 낮아진 빛의 밀도만큼 축소 배율을 낮춰줘야 하는거야.이 말은 축소할수록 해상도가 높아지고, 축소에는 한계가 없다는거야.반대로 확대할수록 해상도가 낮아지고, 빈 공간을 체워줘야 하는거지.그래서 광학에서 확대하려면 빛을 모으는 작업을 많이 하지.축소할때는 빛을 줄여주기만 되기 때문에 0.000000001나노도 가능하다는거야.그리고 난 다음에 이제 누설 전류의 문제인데,누설 전류의 경우 반도체 크기가 작아짐에 따라서, 반도체 산화막의 미세한 균열들이상대적으로 커지면서 누설전류량이 증가하는건데,산화막의 밀도를 높여줘서 누설 전류량을 감소시켜야돼,그래핀 소재로 코팅한 상태에서 그래핀 산화막을 건식으로 만드는거지.그리고 식각 공정을 거친 이후에, 그래핀으로 다시 그 곳 미세하게 코팅하고,건식으로 고압으로 누르고 가열해서 빈 공간을 체우고,다시 식각 공정을 하는거야. 완전 무균열 산화막을 만드는거지.웨이퍼 산화막의 단위 부피당 질량이 높아지면서 밀도가 높아져야,누설 전류를 감소시킬수있는거야.빛의 밀도를 100만배 낮춰 하나의 접점에 그 상을 사진찍듯이 그려내는데,그때 발생하는 빛의 에너지로 배율을 측정할수있게 되는거지.빛의 에너지 배율 측정 방식이야. 해상도는 그 이후에 문제지.0.0000001나노가 만들어지면 1나노 크기의 CPU에 약 0.0000001가 1000000개가 들어갈수있어.그러면 에너지 효율 전성비도 엄청 높아지겠지만, 성능도 비약적으로 상승하지.사실 양자 컴퓨터는 게임도 안되지. 반도체 SSD에 적용하면 반응속도가 더 빠르고 10000TB SSD도 가능해지는거지.이 기술의 가치가 애플 테슬라 포함 시가 총액보다 더 높은 가치의 기술력이야.
0.01나노 반도체 당장 상용화 가능한 이유.jpg
반도체는 2나노 이하로는 불가능하다는게 반도체 업계의 정론이지.
그래서 2나노 이하부터는 2나노 반도체를 3D형식으로 쌓거나 더 많이 넣어서,
그 면적이 1나노일때와 같은 용량을 가지도록 하는거야.
이것은 CPU나 반도체의 크기가 커진다는것을 의미하는거야.
저장장치 반도체에서는 5나노 이하로 낮추면 스케일링 현상이 심한데,
누설전류가 발생해서 데이터의 오류가 발생하는거지.
그래서 0.01나노를 현실화 하려면 빛의 크기를 줄이는것과 누설전류를 막아야돼,
빛의 크기를 줄이려면 빛의 밀도를 낮추고 배율을 높이면 되겠지.
렌즈 필터 ND1000000의 경우, 빛이 투과하면 빛의 밀도를 1/100만으로 낮춰주는데,
이때 빛의 접점 부분을 뒤로 미루는거야.
코일 축소 배율 렌즈로 빛의 X축과 Y축을 미세 교정하는거지.
그러면 2나노를 그리던 빛의 크기는 약 100만배가 낮아져서,
0.0000002나노가 되는거야. 이때 정교한 축소 배율을 정하기 위해서,
빛의 밀도를 ND1000000으로 100만배를 낮추고, 빛의 접점의 에너지를 측정하는거야.
그 에너지가 높으면 낮춘 빛의 밀도보다 뒤로 물러난거고 작으면 너무 앞으로 온거지.
정교하게 0.0000001J까지 맞춰서 0.000001나노를 만들수있다는거지.
그리고 렌즈 필터를 거친 빛의 입자가 공기층에 닿으면 사라지는데, 진공 상태에서 해야겠지.
렌즈 필터 ND 200을 사용해서 빛의 밀도를 1/200으로 낮춰주고, 2나노의 빛이 투과하고
빛의 접점을 잘 맞추면 0.01나노가 되는건데,
이때 접점에서 측정되는 에너지 크기로 미세조율을 하는거야.
광학의 세계에서 0.001CM 뒤로 밀렸는데 1억배가 작아질수도있지.
빛의 크기를 줄이려면 밀도를 낮추고 배율을 높이는거야.
접점만 뒤로 미루면 배율은 높아지는데, 정교한 작업이 중요하다는거지.
그리고 빛의 해상도가 중요한데,
문자 A를 100배의 크기를 키우면 커지면서 A의 사이사이에 빈틈이 생기고
해상도가 떨어져, 그런데 빛의 크기를 줄이면 해상도가 좋아지면서,
단위 면적에 겹치는 빛이 생기면서, 형태가 깨진다는거야.
그래서 낮아진 빛의 밀도만큼 축소 배율을 낮춰줘야 하는거야.
이 말은 축소할수록 해상도가 높아지고, 축소에는 한계가 없다는거야.
반대로 확대할수록 해상도가 낮아지고, 빈 공간을 체워줘야 하는거지.
그래서 광학에서 확대하려면 빛을 모으는 작업을 많이 하지.
축소할때는 빛을 줄여주기만 되기 때문에 0.000000001나노도 가능하다는거야.
그리고 난 다음에 이제 누설 전류의 문제인데,
누설 전류의 경우 반도체 크기가 작아짐에 따라서, 반도체 산화막의 미세한 균열들이
상대적으로 커지면서 누설전류량이 증가하는건데,
산화막의 밀도를 높여줘서 누설 전류량을 감소시켜야돼,
그래핀 소재로 코팅한 상태에서 그래핀 산화막을 건식으로 만드는거지.
그리고 식각 공정을 거친 이후에, 그래핀으로 다시 그 곳 미세하게 코팅하고,
건식으로 고압으로 누르고 가열해서 빈 공간을 체우고,
다시 식각 공정을 하는거야. 완전 무균열 산화막을 만드는거지.
웨이퍼 산화막의 단위 부피당 질량이 높아지면서 밀도가 높아져야,
누설 전류를 감소시킬수있는거야.
빛의 밀도를 100만배 낮춰 하나의 접점에 그 상을 사진찍듯이 그려내는데,
그때 발생하는 빛의 에너지로 배율을 측정할수있게 되는거지.
빛의 에너지 배율 측정 방식이야. 해상도는 그 이후에 문제지.
0.0000001나노가 만들어지면 1나노 크기의 CPU에 약 0.0000001가 1000000개가 들어갈수있어.
그러면 에너지 효율 전성비도 엄청 높아지겠지만, 성능도 비약적으로 상승하지.
사실 양자 컴퓨터는 게임도 안되지.
반도체 SSD에 적용하면 반응속도가 더 빠르고 10000TB SSD도 가능해지는거지.
이 기술의 가치가 애플 테슬라 포함 시가 총액보다 더 높은 가치의 기술력이야.