반도체 업계에서 2나노 이하는 생산이 불가능하다는 결론을 내렸어.그래서 적층하는 방식으로, 일단 성능이라도 높여보자고, 쌓고 있는데, 적층하는 양이 늘어날수록 거리가 멀어지기 때문에, 데이터를 불러들이는 속도가 늘어날수밖에 없고, 전성비가 낮아질수밖에 없지.거리가 멀어지면 지연 속도가 늘어나는데, 대역폭을 늘려서 한번에 많이 불러올순있어도 지연 속도를 낮추진 못하는거지.2나노 이하의 반도체는 생산이 불가능하다고 한 이유는 크게 2가지인데,첫째는 더이상 빛의 크기를 줄일수 없었기 때문이고, 그 다음은 누설 전류 문제 때문이였어,현재 반도체 공정에서 웨이퍼를 그려낼때, 포토 공정이라고 해서,마스크에 빛을 쏘아 반사된 빛을 웨이퍼에 쏴서 그려내는데,이때 빛의 밀도를 낮춰주는 렌즈 필터 ND1000000을 설치하는거야.그리고 렌즈 필터는 통과한 빛의 밀도가 1/100만배로 작아지게 되는데,투과된 빛의 밀도가 낮아진 상태에서 빛의 형상이 맺어지는 곳이 0.01CM만 뒤로 밀리게되어도,빛의 형상이 1/100만배로 작아진다는거지.광학의 세계에서 0.01cm가 약 100만배의 크기를 작게 만들수있다는거야.만약에 현재 사용하는 2나노 공정에서, 빛의 밀도를 낮춰주고, 조금 더 뒤로 미루게 하는 빛을 축소하는 공정을 추가해서,100만배 작아진 반도체가 등장하게되면 0.000002나노 반도체가 만들어지는거야.2개를 겹치게 되면 1조배 작아지게 만들수있지. 빛의 투과되면서 생기는 빛의 손실을 줄이려면 빛이 축소 렌즈를 투과할때 형상의 손실을 주지 않는,최소한의 단위 면적당 에너지에 도달하게 미세 조정을 해서, 통과시키면 되겠지.그러면 한 순간에 1나노 반도체에서 10억배 작아진 1아토 반도체를 만들수있어.누설 전류 문제를 막는 방법은 웨이퍼에 절연체를 코팅하고,그 위에 그래핀으로 코팅한 이후에 고밀도 건식 산화막을 만드는거야. 산화막과 웨이퍼 사이에 절연체가 들어가게 되지. 이런 경우 소자의 크기가 너무 작아져서, 낮은 전압으로도 소자가 탈수있는데,소자가 타지 않도록 전압을 낮춰줘야겠지.1아토 반도체가 만들어지면 작은 메모리칩에 1000TB를 저장할수있고, 전성비가 매우 높아지는데,스마트폰 한 대가 슈퍼컴퓨터 100만대를 넣은 성능을 가질수있어.스마트폰 한 대로 PC 100만대를 동시에 가동하게 할수도 있다는 말이야.반도체 업계의 물리적 한계라는 2나노 반도체를 누군가 깨야겠지.2나노가 깨지고 0.01나노 반도체가 시장에 등장하게 되면 반도체 시장은 뒤바뀔꺼고,5년마다 100배씩 크기가 작아진 반도체가 시장에 나오면서, 반도체에 특이점이 오게 되는거야. 0.01나노 반도체 시대가 10년안에 올수도 있고, 100년이 지나도 1000년이 지나도 못올수도 있어.하지만 분명한것은 미래에 0.01나노 반도체가 등장할꺼라는거지 1
곧 반도체의 특이점이 오는 이유.JPG
반도체 업계에서 2나노 이하는 생산이 불가능하다는 결론을 내렸어.
그래서 적층하는 방식으로, 일단 성능이라도 높여보자고,
쌓고 있는데, 적층하는 양이 늘어날수록 거리가 멀어지기 때문에,
데이터를 불러들이는 속도가 늘어날수밖에 없고, 전성비가 낮아질수밖에 없지.
거리가 멀어지면 지연 속도가 늘어나는데,
대역폭을 늘려서 한번에 많이 불러올순있어도 지연 속도를 낮추진 못하는거지.
2나노 이하의 반도체는 생산이 불가능하다고 한 이유는 크게 2가지인데,
첫째는 더이상 빛의 크기를 줄일수 없었기 때문이고,
그 다음은 누설 전류 문제 때문이였어,
현재 반도체 공정에서 웨이퍼를 그려낼때, 포토 공정이라고 해서,
마스크에 빛을 쏘아 반사된 빛을 웨이퍼에 쏴서 그려내는데,
이때 빛의 밀도를 낮춰주는 렌즈 필터 ND1000000을 설치하는거야.
그리고 렌즈 필터는 통과한 빛의 밀도가 1/100만배로 작아지게 되는데,
투과된 빛의 밀도가 낮아진 상태에서 빛의 형상이 맺어지는 곳이 0.01CM만 뒤로 밀리게되어도,
빛의 형상이 1/100만배로 작아진다는거지.
광학의 세계에서 0.01cm가 약 100만배의 크기를 작게 만들수있다는거야.
만약에 현재 사용하는 2나노 공정에서, 빛의 밀도를 낮춰주고, 조금 더 뒤로 미루게 하는 빛을 축소하는 공정을 추가해서,
100만배 작아진 반도체가 등장하게되면 0.000002나노 반도체가 만들어지는거야.
2개를 겹치게 되면 1조배 작아지게 만들수있지.
빛의 투과되면서 생기는 빛의 손실을 줄이려면 빛이 축소 렌즈를 투과할때 형상의 손실을 주지 않는,
최소한의 단위 면적당 에너지에 도달하게 미세 조정을 해서, 통과시키면 되겠지.
그러면 한 순간에 1나노 반도체에서 10억배 작아진 1아토 반도체를 만들수있어.
누설 전류 문제를 막는 방법은 웨이퍼에 절연체를 코팅하고,
그 위에 그래핀으로 코팅한 이후에 고밀도 건식 산화막을 만드는거야.
산화막과 웨이퍼 사이에 절연체가 들어가게 되지.
이런 경우 소자의 크기가 너무 작아져서, 낮은 전압으로도 소자가 탈수있는데,
소자가 타지 않도록 전압을 낮춰줘야겠지.
1아토 반도체가 만들어지면 작은 메모리칩에 1000TB를 저장할수있고, 전성비가 매우 높아지는데,
스마트폰 한 대가 슈퍼컴퓨터 100만대를 넣은 성능을 가질수있어.
스마트폰 한 대로 PC 100만대를 동시에 가동하게 할수도 있다는 말이야.
반도체 업계의 물리적 한계라는 2나노 반도체를 누군가 깨야겠지.
2나노가 깨지고 0.01나노 반도체가 시장에 등장하게 되면 반도체 시장은 뒤바뀔꺼고,
5년마다 100배씩 크기가 작아진 반도체가 시장에 나오면서,
반도체에 특이점이 오게 되는거야.
0.01나노 반도체 시대가 10년안에 올수도 있고, 100년이 지나도 1000년이 지나도 못올수도 있어.
하지만 분명한것은 미래에 0.01나노 반도체가 등장할꺼라는거지