0.01나노에서 누설전류 없애는 방법.JPG

누설 전류를 없애려면 기본 전압에서 전류가 흐르지 않도록 해야돼.

반도체 소자가 0.01나노가 되어서 1CM에 약 100배 공간이 확장되게 되지.

그러면 일정 전류에서 오랜 시간 유지가 되는거야.

그리고 전압을 줘서 가득 체우면 그제서야 산화막을 통해서 전류가 흐르는거지.

D는 절연체인데, 드레인 B에서 전류가 흐르면서 E 부분의 산화막에서 열로 전환되는거야.

그러다가 전압을 높이면 E를 통해 C 소스로 전류가 흐르면서 값이 변경되는거지.

B에 기본 전압만 줘도 전류가 조금씩 감소하다가 모두 산화막으로 흡수되는데,

일정하게 전압을 유지하다가, 전압을 높여주는거지.

이런식으로 소자와 드레인 사이에 절연체를 넣어서 전류를 통하지 않게 해야돼.

2나노 이하부터 너무 작아졌기 때문에, 절연체 코팅을 해줘야돼