현재 반도체를 만드는 공정은 EUV레이저를 통해,

노광을 마스크에 쏜 뒤, 만들어진 빛을 배율 렌즈를 통해 축소 시키는데,

여기서 배율을 높이면 에너지가 너무 높아져서 웨이퍼가 타버린다고,

그래서 배율 렌즈 앞에 투과율을 낮춰주는 유리를 설치해서

빛의 에너지를 90%정도 손실하게 만드는거지.

그러면 10%로 빛의 밀도가 작아지는데, 에너지도 작아져.

이때 10배 배율 렌즈를 그 앞에두는거야. 그러면 10배가 작아지게 되는거지.

투과율 10% 반사 유리를 설치하고, 그 뒤에 10배율 렌즈를 설치를 하는건데.

이것을 2번 반복하면 100배, 3번 반복하면 1000배 작아지는거야.

정리하자면 처음에 마스크를 본을 뜰 때는 파장이 짧은 EUV 레이저를 사용하고,

이후에 만들어진 빛의 투과율을 낮추는 핵심 투과체로 빛의 에너지를 감소시키고,

배율 렌즈를 둬서 초미세화 공정이 가능해진다는거지.

이런 공정으로 0.01나노는 물론 0.0001나노도 가능하다는거야.

0.1나노 시대를 가려면 50년이 걸린다는데,

이 방법으로 0.0001나노도 5년안에 가능해질수있어.

공정을 추가로 늘리면 늘릴수록 더 작아지기 때문이지.

반도체 시장에 세계 엘리트들이 다 모여, 

3000조원을 30년간 투자해도 0.1나노를 가는데 30년이상이 걸린다고 했었는데,

0.0001나노도 가능해지는 핵심 공정이 설계 된거지.

이론적으로 이미 0.000000000001나노도 가능해,

나중에 이렇게 초미세화 될때는 렌즈와 유리의 거리와 그 안의 매질도 고려될거야.

액체가 들어가거나 진공이 될텐데.

벌써 반도체의 특이점이 온거지.