ASML의 차세대 기술에서 해상도 높이는 기술의 원리는 간단한데.

노광 EUV 빛의 전압을 충분하게 줘서 마스크에 닿게 하는거야. 

펠리클을 만드는 이유가 미세먼지에 손상이라고 하는데,

사실 그렇지 않는데, 

펠리클이 없으면 노광에 마스크가 직접 닿아서, 손상을 입는데,

펠리클을 만들어서 에너지를 흡수 하게 해서, 마스크의 손상을 줄여주는거지.

투과율이 높아질수록 마스크 손상율도 커지지.

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하지만 투과율이 너무 낮으면 해상도가 떨어질수있어.

그래서 마스크에 충분한 전압을 줘서 만든 노광으로 반사시켜, 높은 해상도를 구현하는데,

펠리클이 꼭 필요한 장비지.

EUV 레이저를 보면 이런데,

마스크에서 반사된 빛을 거울로 반사해 최종적으로 렌즈를 통해 그려내는건데,

여기서 펠리클과 같은것으로 투과율이 10%을 설치해야 하는데, 

B1에 설치해야돼, A1이 아니라, 최대로 확장되었을때, 이렇게 확장되었을때는,

투과체의 굵기가 얇아야돼, 길면 손실이 커지기 때문에, 굵기가 얇게해서,

10배 더 축소해서 웨이퍼에 그려내는거지.

그래야 해상도를 높이면서, 0.01나노도 가능해지는거야.

10배율만 낮춰도 3나노가 0.3나노가 되지.

마지막 거울의 높이를 높여서 100:1 1000:1 10000:1로 빛의 밀도를 낮추고

축소 배율만 조정하면 돼,

그러면 0.0001나노도 가능해지는거지.

중요한점은 빛의 밀도를 마스크를 닿은뒤 그 이후의 빛을 낮춰야 한다는점이지.

마스크에 닿기 전에 빛의 밀도를 낮추면 해상도가 잘 안나와.