0.01나노를 현실화 하려면 가장 먼저 중요한 것은 빛의 크기를 줄이는거야.

빛의 크기를 줄이는 방법은 빛의 밀도를 낮추고 축소 배율을 높여주는거지.

EUV레이저에서 마스크에 닿은 빛을 ND1000000필터를 통해서 빛의 밀도를 1/100만으로 낮추는거야.

그리고 마지막 축소 배율 렌즈에서 코일 자기장 X축, Y축에 미세한 전류로 조정해

축소 배율을 높이는거지.

0.01CM뒤로 밀려났는데 100만배 작아질수있는거야.

재미있는 사실은 빛의 밀도를 낮추고, 축소 배율을 높일수록 해상도가 좋아졌다는거지.

만약에 빛의 밀도를 낮추지 않으면 단위 면적에 과도한 빛이 몰려서 형상이 제대로 나오지 않아.

그래서 축소 배율을 100만배까지 한번에 줄이는데. 단 0.01CM 차이로 그런 차이를 보이는거지.

그런데 1나노를 100만배 줄이면 0.00001나노인데,

누설 전류는 어떻게 막냐는거야. 이것도 반도체 업계의 난제중에 난제였지.

그것은 바로 밀도에 있었어,

20나노이하로 내리게 되면 반도체에서 누설 전류가 발생하고 간섭에 의해서,

데이터에 심각한 오류가 발생하기 시작한거야.

소자 성형을 통해서 이 문제를 해결했는데, 소자 안에서 산화막의 크기를 키우는거지.

그렇게 해도 결국 한계가 존재하지. 

정답부터 말하자면 밀도가 9000배 정도 되는 그래핀으로 코팅하고,

건식으로 그래핀의 산화막을 만드는거야. 그래핀의 산화막의 밀도를 9000배까지 높이는거지.

그러면 0.00001나노에서도 누설전류가 발생하지 않아.

누설 전류가 발생했던 이유는 소자가 미세 공정화 되는 과정에서,

산화막의 안의 미세한 구멍들의 크기가 상대적으로 커지면서,

누설 전류가 발생했던거지.

그래서 9000배 이상의 밀도의 그래핀으로 코팅하고, 

산화막을 건식으로 형성하면 되는거야.

0.01나노를 5년 안에 현실화 하면 ASML의 회사 가치는 얼마나 커질까,

0.01나노가 현실화 되면 반도체에 급변이 시작되겠지.

사실 0.01나노는 시작에 불과하지. 0.0000001나노가 바로 등장할수도있어.

기술적 차이는 없고, 빛의 밀도만 조절하면 되는 문제닌깐,

ND1000000을 2개 갑치면 1조배 작게 만들수있어.

이게 광학의 세계지.