그것은 현재 사용하는 투사노광법인데

EUV레이저에서 만들어진 빛의 밀도를 낮추고 응축렌즈로 거리를 조정하는거지.

1나노에서 0.1나노로 가는게 매우 간단해,

거리가 조금 더 멀어지기만 하면 작아진다는거지.

그런데 여기서 뭐가 중요할까? 바로 빛의 밀도야.

빛의 밀도가 크면 0.1CM만 더 멀어져도 빛이 겹쳐지는 부분이 많아지면서,

해상도도 떨어지고, 본형이 안나오지. 그런데 밀도를 낮춰놓고, 

미세 조정을 하면 바로 가능하지.

응축렌즈에서 빛의 거리를 미세조정할수있도록 설정할수도있고, 설정한 상태로 만들어,

대량생산할수있지.

반도체에 이미 특이점이 온거야.

0.01나노화. 0.00001나노화도 가능하지.

이렇게 미세 나노화되는 과정에서 터널링 효과 이야기 많이하는데,

빛이 두꺼운 벽을 뚫지 못하지만, 얇은 종이막을 빛이 통과하는거야.

빛이 투과되지 않도록 코팅 해야겠지. 

0.01나노화를 현실화 하는 핵심 기술은 바로 빛의 밀도를 낮추는 공정인데,

렌즈를 통과하면서 빛의 밀도가 감소하게되고, 

감소된 빛을 보정해 형틀을 복원할수있는 렌즈가 필요하겠지.

이렇게 빛의 밀도를 낮추고 응축하는 과정에서 해상도를 잡는 방법으로

3번에 나눠서 그리는 방법이 있어, 

한번 빛을 쏘고, 웨이퍼에 깊은 곳을 체우고

다시 한번 더 쏘아서 맞추는거지. 

방법은 여러가지인데,

핵심은 0.001나노화가 되더래도 웨이퍼에 제대로 그려져야지.

나눠서 그리거나 마지막에 빛의 밀도의 균형을 맞춰주는거야.

그러면 이런 공정을 빼도 되지. 물론 이렇게 해서 나눠서 찍어내리듯이 할수도있어.

단 0.1CM만 더 멀리 보냈는데, 크기가 100배 작아질수도있어.

이게 광학의 세계야.

0.01나노 메인 CPU와 0.01나노 보조 CPU를 차별 생산해서,

고 CPU 성능이 필요한 사람들은 보조 CPU를 추가 구매해서 끼워넣으면 되겠지.

0.01나노가 되면 보조 CPU를 5개, 10개 끼울수도 있어.

반도체에 이미 특이점이 온거야.