2나노가 반도체의 한계라고 하는 이유는 

누설 전류와 빛의 크기를 더이상 줄일수 없었기 때문이야.

물리적으로 빛의 크기를 줄이기 위해서, 

미세한 홀을 만들어야 하는데 불가능하다는거지.

하지만 축소 렌즈와 렌즈 필터만 있으면 간단한 일이야.

렌즈 필터 ND1000000의 경우, 빛이 투과되면 빛의 밀도가 1/100만으로 낮아지는데,

이 빛을 하나의 접점에서 모으는거지, 

빛의 밀도를 낮춘 뒤, 100만배를 작게 만드는거야.

이때 접정의 단위 면적당 빛의 에너지로 축소 배율이 잘 되었는지 알수있지.

에너지가 높으면 축소 배율보다 더 많이 축소된거고 적으면 적게 된거지.

0.00001J까지 맞춰서 웨이퍼에 그려내는거야.

그런데 이렇게 축소했을때 가장 중요한게 바로 해상도인데,

현재 ASML에서 해상도를 높이는 방법은 빛의 파장이 매우 짧은 

에너지가 높은 빛을 모아서 물질에 쏴준 이후에 반사된 빛으로 그려내는 방식인데,

마스크의 크기를 더 키우고 더 정교하게 만드는거지. 

그리고 닿은 빛이 반사되었을때 밀도를 낮춰주고 축소 배율을 높이는거지.

해상도는 물질의 크기가 클수록, 축소 배율이 높아질수록 

빛을 단위 면적당 더 많이 모아 높아지는데,

빛의 밀도가 지나치게 높아지게 겹쳐지면서 그 형상이 제대로 나오지 않아서,

축소를 하는경우 빛의 밀도를 렌즈 필터로 낮춰주는거야.

그래서 축소할수록 해상도가 높아지기 때문에 축소에는 한계가 없다는거야.

0.0000000001나노도 가능한 이유야.

1조개의 CPU가 1나노 CPU에 들어가는거지.

이렇게 작아지게 되면 누설 전류량이 높아지는데,

현재 실리콘 웨이퍼에 그래핀으로 코팅후 그래핀 산화막을 만드는거야.

그래핀 산화막에 절연체 코팅을 한번 더 해주는거지.

이러면 누설 전류가 줄어들지만 발열이 늘어나겠지.

전압을 낮춰주는게 누설 전류와 발열을 줄이는건데,

0.01나노부터는 CPU 전압이 크게 낮춰줘야돼,

이러면 빛의 크기도 줄이면서 누설 전류도 줄이는거지.

전압을 높였을때 생기는 압력 증가로 발열이 늘어나고 누설전류가 늘어나 

CPU의 소자를 녹일수있어, 

전압이 낮아도 문제가 없는 CPU를 만드는거지.

물론 성능은 조금 낮아지겠지. 하지만 발열과 누설전류가 줄어들게되겠지.

이 CPU를 2개를 착용하면 고전압 CPU보다 1.5배정도 성능이 우수해지면 돼,

CPU를 여러개 끼면 되는 문제인데,

메인 CPU와 보조 GPU 1개로만 사용하다가 게임모드나 고사양 모드가 가동되면

모든 영역을 다 사용하도록 하는거야. 그래야 전력 효율도 높아지겠지.

메인 CPU는 반드시 직렬 계산을 해야하고, 

병렬 계산이 가능한 보조 CPU를 추가하는게 맞겠지.

처리 영역을 나누는거야. 

사실 0.01나노는 시작이라는 말이지.

0.0000000001나노도 가능해질수도있어.

산화막 밀도를 높이고, 낮은 전압으로 누설전류와 발열을 해결하는거지. 

CPU와 GPU를 다시 설계해야겠지.